ראה מונחים נוספים: chain scission
developer
|
חומר רגיש להקרנה, כלומר, משנה את תכונותיו הכימיות בעת שמוקרן. מופיע בצורת שכבה דקה המשמשת כשכבת להעברת תבניות בתהליך הליטוגרפי בייצור מוליכים למחצה
|
[#5966] נוסף בתאריך 07-08-2006
« המונחים הקודמים
high-k dielectric, high k
amorphous material
hydrofluoric acid, HF
hydrochloric acid [HCl]
clean room |
|
המונחים הבאים »
positive resist
single-crystal material
polycrystalline material, poly
photoresist
covalent bond |
תגובות (0)
|