ראה מונחים נוספים:
low-k dielectric, low k
multilevel interconnect, MLI
ראה מונחים דומים:
Cross-Talk
מונחון: סלולר וכף-יד
|
פעילות גומלין קיבולית בלתי רצויה בין שני קווי מתכת סמוכים בתכנית המתכת הרב מישורית במעגל משולב. כדי לאפשר תפעול התקן בתדר גבוה יש למנוע שיחה צולבת על ידי שימוש בבידוד בין-שכבתי כנתון דו-חשמלי (K) נמוך ככל האפשר
|
[#6031] נוסף בתאריך 07-08-2006
« המונחים הקודמים
channeling
dislocation
rinsing
hydrophilic surface
hydrophobic surface
|
|
המונחים הבאים »
Chemical Vapor Deposition [CVD]
Physical Vapor Deposition [PVD]
predeposition
active Si layer
boundary layer
|
תגובות (0)
|
הפתקיות שלי (0) 
סימון טקסט 
שלח לחבר 
קשר לכאן 
תגובות (0)
