איתן אפדיה - HF last process

ראשי » מילוני איתן למיחשוב וטכנולוגיה » מוליכים למחצה

HF last process
[HFL]

הפתקיות שלי (0) [פתח]

סימון טקסט [פעיל]

שלח לחבר [פתח]

קשר לכאן [פתח]

תהליך HF אחרון. רצף הכנת פני שטח של Si אשר בו מבוצעת חריטת HF של תחמוצת מקורית / כימית בסוף הרצף, והשטח נותר עם מימן.

[#6297] נוסף בתאריך 07-08-2006

« המונחים הקודמים

Hexamethyldisilizane [HMDS]

Hexagonal Cell FET [HEXFET]

Heterojunction Insulated Gate Field Effect Transistor [HIGFET]

Heterojunction Bipolar Transistor [HBT]

heavily charged ion, [HCI]

המונחים הבאים »

high angle implantation

high density plasma [HDP]

High Efficiency Particulate Air Filte [HEPA filter]

High Electron Mobility Transistor [HEMT]

High Resolution Transmission Electron Microscopy [HRTEM]

תגובות (0)

שנה »

ניווט

קטגוריות

חיפוש

אינדקס

דרכונט

לא מחובר. להתחברות:

Top10

מבוקשים

חדשים

אחרונים