|
משוואה המתארת את ההסתברות שמצב יאוכלס על ידי אלקטרון, כתלות ברמת האנרגיה של המצב.
|
[#6207] נוסף בתאריך 07-08-2006
« המונחים הקודמים
emitter
photolithography, optical lithography
crystal defects
Frenkel defect
killer defect
|
|
המונחים הבאים »
scattering
development
fluorine in SiO2
downstream plasma
helicon plasma
|
תגובות (0)
|
הפתקיות שלי (0) 
סימון טקסט 
שלח לחבר 
קשר לכאן 
תגובות (0)
