photolithography, optical lithography
פוטוליטוגרפיה, ליטוגרפיה אופטית

ראה מונחים נוספים:
UV, EUV קיצוני
extreme UV [EUV]

 
שיטת הגדרת דפוס שמשתמשת בקרינת UV לחשיפת החומר המגן. טכניקת הליטוגרפיה הנפוצה ביותר בייצור מוליכים למחצה. משתמשת ב- UV באורכי גל קצרים ביותר (UV קיצוני) , הדפסת הקרנה, מסכות תזוזת פאזה, וטכנולוגיית חומר מגן מתאימות עם רזולוציות של 0.1 מילימיקרון.

[#6193] נוסף בתאריך 07-08-2006

« המונחים הקודמים
פגמי גביש
crystal defects
פגם פרנקל
Frenkel defect
פגם הורג
killer defect
פגם אור נקודתי
light point defect [LPD]
ערמת שער
gate stack
 המונחים הבאים »
פולט
emitter
פיזור
scattering
פיתוח
development

תגובות (0)
שנה » ניווט
דרכונט
גישה לאתר דרכונט
לא מחובר. להתחברות:
דוא"ל:
סיסמה:
שכחתי סיסמה שכחתי סיסמה
משתמש חדש משתמש חדש
 זכור אותי  כן לא
Top10
מבוקשים
חדשים
אחרונים