UV/Cl2

ראה מונחים נוספים:
ניקוי יבש
dry cleaning

 
חשיפה של משטח Si לקרינה אולטרה סגולה בתוך 12C. חלק מתוכנית הניקוי היבש של סיליקון. גורם להתנדפות של כמה מזהמים מתכתיים מפני השטח של Si ולחריטה קלה של הסיליקון.

[#5987] נוסף בתאריך 07-08-2006

« המונחים הקודמים
 המונחים הבאים »

תגובות (0)
שנה » ניווט
דרכונט
גישה לאתר דרכונט
לא מחובר. להתחברות:
דוא"ל:
סיסמה:
שכחתי סיסמה שכחתי סיסמה
משתמש חדש משתמש חדש
 זכור אותי  כן לא
Top10
מבוקשים
חדשים
אחרונים