ראה מונחים נוספים: I2L
|
מבוססת על טכנולוגיה דו קוטבית; מיתוד מהיר מאוד אך צריכת הספק גבוהה.
|
[#6137] נוסף בתאריך 07-08-2006
« המונחים הקודמים
gas chromatography [GC]
Cr, chrom
design rules
mask
barrel reactor |
|
המונחים הבאים »
Atmospheric Pressure CVD [APCVD]
lithography
g - line lithography
i - line lithography
faceting |
תגובות (0)
|