|
משמש, בטכנולוגית מצב מוצק, לחקירת סוגים השקועים בפני שטח מוצקים (אנליזת הפסקת ספיגה)
|
[#6260] נוסף בתאריך 07-08-2006
« המונחים הקודמים
Cr, chrom
design rules
mask
barrel reactor
Atomic Layer Epitaxy [ALE]
|
|
המונחים הבאים »
Emitter Coupled Logic [ECL]
Atmospheric Pressure CVD [APCVD]
lithography
g - line lithography
i - line lithography
|
תגובות (0)
|
הפתקיות שלי (0) 
סימון טקסט 
שלח לחבר 
קשר לכאן 
תגובות (0)
