ראה מונחים נוספים:
aligner
electron
electron beam (e-beam) lithography [EBL]
|
תהליך שנועד להעביר דפוס מהכיסוי/רשת לשכבת החומר המגן שהושם על שטח הפנים של ההדפס. סוג הליתוגרפיה תלוי באורך הגל של הקרינה בה משתמשים לחשיפת החומר המגן. פוטוליתוגרפיה (ליטוגרפיה אופטית) משתמשת בקרינת אולטרא סגולית, ליטוגרפיה קרני רנטגן משתמשת בקרינת קרני רנטגן, ליטוגרפיה של קרן אלקטרונים משתמשת בקרן אלקטרונים, ליטוגרפיה של קרן יונים משתמשת בקרן יונים.
|
[#6150] נוסף בתאריך 07-08-2006
« המונחים הקודמים
Atmospheric Pressure CVD [APCVD]
Emitter Coupled Logic [ECL]
gas chromatography [GC]
Cr, chrom
design rules
|
|
המונחים הבאים »
g - line lithography
i - line lithography
faceting
polishing
excimer laser
|
תגובות (0)
|
הפתקיות שלי (0) 
סימון טקסט 
שלח לחבר 
קשר לכאן 
תגובות (0)
