ראה מונחים נוספים:
excimer laser
|
אורך גל 248 nm. מתאים לחשיפה של 180 nm (0.18 מיקרון)
|
[#6197] נוסף בתאריך 07-08-2006
« המונחים הקודמים
excimer laser
polishing
faceting
i - line lithography
g - line lithography
|
|
המונחים הבאים »
electron beam (e-beam) lithography [EBL]
collector
gate contact
drift velocity
CMOS inverter
|
תגובות (0)
|
הפתקיות שלי (0) 
סימון טקסט 
שלח לחבר 
קשר לכאן 
תגובות (0)
