electron beam (e-beam) lithography
[EBL]
ליתוגרפית קרן אלקטרונים (קרן e)

ראה מונחים נוספים:
קרן בצורה משתנה
variable shape beam

 
טכניקת ליתוגרפיה המשתמשת בקרן ממוקדת של אלקטרונים לחשיפת החומר המגן אין שימוש במסכה מכיוון שהדפוס "נרשם" ישירות לתוך החומר המגן על ידי סריקה מהירה ביותר של קרן אלקטרונים. אפשרית רזולוציה העברת דפוס מתחת ל – 0.1 מילימיקרון.

[#6158] נוסף בתאריך 07-08-2006

« המונחים הקודמים
ליטוש
polishing
ליטוש
faceting
ליטוגרפית קו I
i - line lithography
 המונחים הבאים »
מאסף
collector
מגע שער
gate contact
מהפך CMOS
CMOS inverter

תגובות (0)
שנה » ניווט
דרכונט
גישה לאתר דרכונט
לא מחובר. להתחברות:
דוא"ל:
סיסמה:
שכחתי סיסמה שכחתי סיסמה
משתמש חדש משתמש חדש
 זכור אותי  כן לא
Top10
מבוקשים
חדשים
אחרונים