|
שכבת תחמוצת השקועה בתדפיס סיליקון בעומק של פחות מ – 0.2 מיקרון משטח הפנים שלו ועד כמה מיקרונים.
|
[#5947] נוסף בתאריך 07-08-2006
« המונחים הקודמים
gate oxide
field oxide [FOX]
fluorinated oxide
chemical oxide
nitric oxide [NO]
|
|
המונחים הבאים »
damascene
furnace horizontal
horizontal furnace
furnace vertical
vertical furnace
|
תגובות (0)
|
הפתקיות שלי (0) 
סימון טקסט 
שלח לחבר 
קשר לכאן 
תגובות (0)
